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從微米到納米:晶圓缺陷光學檢測設備如何推開亞波長極限之門
從微米到納米:晶圓缺陷光學檢測設備如何推開亞波長極限之門

當先進制程逼近3nm節點,芯片上的致命瑕疵往往只有十幾個納米大小——遠小于可見光波長,傳統光學檢測的“視力”已近物理天花板。但這并非終點:新一代晶圓缺陷光學檢測設備正通過深紫外(DUV)光源、明暗場融合與計算成像的組合拳,硬生生將靈敏度壓入十納米級。這不是單純放大圖像,而是重構“...

2026 4-17
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